拋光液過濾工藝流程
CMP,即Chemical Mechanical Polishing,化學機械拋光。CMP技術所采用的設備及消耗品包括:拋光機、拋光漿料、拋光墊、后CMP清洗設備、拋光終點檢測及工藝控制設備、廢物處理和檢測設備等。
CMP拋光液是以高純硅粉為原料,經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。
過濾目的:
去除顆粒、凝膠等雜物;
過濾要求:
1.濾材溶出物低、無介質脫落;
2.去雜能力強,壽命長;
3.高流量,機械強度高。
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